关于罩式退火炉不得不了解的知识

　　罩式退火炉是在半导体器件制作中运用的一种工艺，其包含加热多个半导体晶片以影响其电功能。热处理是针对不同的效果而设计的。能够加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状况，修正注入的损害，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉能够集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者能够自己处理。

　　退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式工作炉，超节能结构，选用纤维结构，节电60%。工作时，工件置于充溢维护气氛的维护罩内均匀加热和冷却。强循环风机和维护气氛可使退火后的工件获得均匀的硬度和亮光的表面，真空体系用于维护气和空气的置换，使操作安全可靠。罩式退火炉可配备多个炉台，进行接连工作，其工作流程一般为：装炉-予抽真空-通维护气-加热-保温-气、水组合冷却-真空清洗-放气-出炉-下一个工作流程。

　　罩式退火炉主要用于在天然气氛中进行薄板材退火以及钢件的正火处理。1、特殊钢、精密合金、大型全纤维台车式电阻炉阐明带材、线材的亮光退火。2、特殊钢铸、锻件的退火。3、硅钢片制品退火。4、金属、非金属粉末压制作件的烧结等。